Huawei и SiCarrier разработали методику для производства 5-нм чипов

Китайские фирмы Huawei и SiCarrier разработали методику, названную self-aligned quadruple patterning (SAQP), благодаря которой станет возможным производство 5-нанометровых микрочипов с использованием уже имеющегося оборудования. Этот подход предполагает обработку материалов в четыре этапа, что позволит переходить на более тонкие производственные процессы, не требуя новейших устройств для литографии.

Такое нововведение может существенно повысить возможности Китая в области производства полупроводников, несмотря на действующие против страны технологические ограничения, введенные США и Нидерландами. Важно отметить, что на данный момент оборудование для литографии в крайнем ультрафиолете (EUV), необходимое для создания чипов подобного типа, производит только нидерландская компания ASML, и оно не может быть поставлено в Китай из-за упомянутых санкций.

Аналитики из TechInsights полагают, что новый метод действительно способен обеспечить Китай собственным производством 5-нм чипов. Однако они также выразили мнение, что без использования EUV-технологий стране всё же не обойтись.