Американская корпорация Intel уже приступила к внедрению литографических машин с высокой числовой апертурой (high-NA EUV) в процесс производства микросхем. Как сообщает Ars Technica, начиная с июля 2026 года компания задействует данную технологию для серийного выпуска процессоров Panther Lake, предназначенных для мобильных вычислительных устройств.
Параллельно с этим Samsung и TSMC совместно с Intel и нидерландской компанией ASML работают над переходом на новый стандарт фотошаблонов — трафаретов, используемых для переноса рисунка микросхемы на кремниевую пластину. Речь идет о замене шестидюймовых фотошаблонов на двенадцатидюймовые. По словам технического директора ASML Марко Питерса, которые приводит Bloomberg, такой шаг способен в перспективе повысить производительность машин high-NA EUV на 40 процентов.
Южнокорейский производитель чипов памяти SK Hynix также рассматривает возможность присоединения к отраслевому консорциуму, который курирует переход на более крупные фотошаблоны. Представитель компании сообщил Bloomberg, что SK Hynix, как и Samsung, планирует начать выпуск микросхем памяти с применением технологии high-NA EUV в 2028 году.
Повышение эффективности производства чипов становится насущной задачей на фоне продолжающегося роста пузыря в сфере искусственного интеллекта. Стремление технологических компаний строить новые дата-центры для ИИ привело к глобальному дефициту микросхем памяти, что, в свою очередь, спровоцировало удорожание смартфонов, ноутбуков и игровых консолей.
Оборудование ASML играет ключевую роль в производстве передовых чипов, что делает его важным элементом технологического противостояния США и Китая. Нидерландская компания продолжает поставлять китайским предприятиям, включая Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), литографические машины предыдущего поколения, работающие на глубоком ультрафиолете. Однако экспорт большинства более совершенных машин в КНР запрещен из-за ограничений, введенных правительством Нидерландов под давлением Вашингтона.
Несмотря на неподтвержденные утверждения американских властей о том, что Китай мог заполучить одну из машин EUV производства ASML, китайским компаниям будет крайне сложно создать собственный аналог этой технологии и сопутствующую производственную цепочку. Как отметил представитель немецкого концерна Zeiss Group, являющегося эксклюзивным поставщиком зеркал и оптических систем для машин ASML, Китаю может потребоваться около 15 лет на разработку собственных литографических установок EUV.